红外与激光工程  2013, Vol. 42 Issue (7): 1770-1775    
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离子束溅射参数与Ta2O5薄膜特性的关联性
刘华松1, 傅翾2, 王利栓1, 姜玉刚1, 冷健1, 庄克文1, 季一勤1
1. 天津市薄膜光学重点实验室 天津津航技术物理研究所, 天津 300192;
2. 二炮驻天津地区军事代表室, 天津 300192
Correlation between properties of Ta2O5 thin films and preparative parameters by ion beam sputtering deposition
Liu Huasong1, Fu Xuan2, Wang Lishuan1, Jiang Yugang1, Leng Jian1, Zhuang Kewen1, Ji Yiqin1
1. Tianjin Key Laboratory of Optical Thin Film, Tianjin Jinhang Institute of Technical Physics, Tianjin 300192, China;
2. Military Representative Office of Second Artillery Corps in Tianjin, Tianjin 300192, China
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