红外与激光工程  2017, Vol. 46 Issue (9): 921003-0921003(6)    DOI: 10.3788/IRLA201746.0921003
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SiO2薄膜光学常数物理模型
刘华松1,2, 杨霄1, 刘丹丹1, 王利栓1,2, 姜承慧1, 姜玉刚1, 季一勤1,2, 张锋1, 陈德应2
1. 天津津航技术物理研究所 天津市薄膜光学重点实验室, 天津 300308;
2. 哈尔滨工业大学 光电子技术研究所 可调谐激光技术国防科技重点实验室, 黑龙江 哈尔滨 150080
Physical model of optical constants of SiO2 thin films
Liu Huasong1,2, Yang Xiao1, Liu Dandan1, Wang Lishuan1,2, Jiang Chenghui1, Jiang Yugang1, Ji Yiqin1,2, Zhang Feng1, Chen Deying2
1. Tianjin Key Laboratory of Optical Thin Film, Tianjin Jinhang Technical Physics Institute, Tianjin 300308, China;
2. National Key Laboratory of Science and Technology on Tunable Laser, Institute of Opto-electronics, Harbin Institute of Technology, Harbin 150080, China
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